A Motorola kutatói által kifejlesztett új fotomaszk segítségével az áramkörök 100 nm-nél is kisebbek lehetnek a chipekben, ami jelentős előrelépés a jelenlegi eljárásokhoz képest. Az új fotomaszkokon kívül a technológia része az Extreme Ultra-Violet (EUV - Extrém Ultraibolya) fotolitográfiai eljárás is, amely az eddigieknél kisebb hullámhosszúságú fénysugár alkalmazásával precízebb, finomabb kialakítást tesz lehetővé. Az EUV segítségével akár 13 nm vastagságú vágatok is készíthetőek a chipalapanyagon. A Motorola új eljárása 2005-ben kerülhet a chipek gyártósoraiba, és a jelenlegi 130 nm-esnél jóval kifinomultabb, 50 nm-es csíkszélességű chipgyártást teszi majd lehetővé.
Motorola: Új chipgyártási technológia
Hirdetés
Hirdetés