A chipgyártás alapját jelenleg az úgynevezett EUV litográfiai technológia jelenti. Erre, vagyis az extrém ultraibolya sugárzásra épülő gépeket jelenleg egyetlen vállalat, a holland ASML tervez és gyárt a világon, így a legnagyobb gyártók, a TSMC és a Samsung is az ő gépeiket használja. Ez a monopol helyzet viszont azt jelenti, hogy az ASML gyakorlatilag bármennyit kérhet a legújabb gépekért. De ha bejönnek a Canon számításai, ez hamarosan megváltozhat.
Az elsősorban fényképezéstechnikai eszközöket gyártó vállalat már hosszú évek óta dolgozik egy új gyártástechnológiai megoldáson, ami forradalmasíthatná a chipgyártást. A nemrég bejelentett nanoimprint litográfia (NIL) jelenleg 5 nm-es chipek előállítására használható, de várhatóan a 2 nm-es folyamatot is támogatja majd.
Míg az EUV fényt használ az áramköri minták feltárására, itt nincs szükség optikai mechanizmusra, így összetett, két- vagy háromdimenziós áramköri minták is kialakíthatóak egyetlen lenyomatban.
A Canon ügyvezetője szerint nem fogják lenyomni az EUV-alapú gyártást, de új lehetőségeket teremtenek majd, amivel megnőhet a kereslet és a kínálat is. A vállalat szerint a gépeik tizedannyiba kerülnek majd, mint az ASML eszközei, így akár kisebb vállalatok is beszállhatnak a chipgyártásba. Az persze kérdés, hogy az alacsonyabb előállítási költségek valóban olcsóbb chipeket jelentenek-e, vagy a befektetők egyszerűen lefölözik az extra profitot.
Az sem elhanyagolható szempont, hogy az amerikai szankciók miatt az ASML nem szállítja a gépeit Kínába, azonban mivel a Canon megoldása nem használ optikát vagy tükröket, őket ezek a korlátozások nem érintik, ami az ottani gyáraknak is új lökést adhat.
